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高性能直读光谱仪OE750的全面金属分析控制
作者:华仪宏盛
2020年04月08日
OE750的新光学系统设计的一个优点是启动时间短。由于光学系统体积小,不到一小时的时间便可启用仪器。可在需要检查100%来料的情况下,助力实现高批量生产。 除了新的光学设计之外,OE750还有其他支持大批量金

 

      OE750的新光学系统设计的一个优点是启动时间短。由于光学系统体积小,不到一小时的时间便可启用仪器。可在需要检查100%来料的情况下,助力实现高批量生产。

      除了新的光学设计之外,OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台,具有优化层流设计,可降低氩气消耗,降低污染的可能性,并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的独特中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%,并避免油气污染,从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

      除创新性硬件技术外,新型OE750还包括可提高性能的软件。例如,它包括日立牌号数据库,该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准,减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。作为选择方案,它配有SPC/LIMS包,能够轻松有效监控该仪器所涉过程以及由其控制的过程。这是满足IATF 16949等标准要求的理想工具。

 

      日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示:“在过去,金属加工企业在购买仪器时,不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750,他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供全面的金属分析。”

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